集成电路布图设计权的法律保护
　　一、集成电路布图设计专有权的内容
　　1、复制权。是指权利人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。
　　2、商业利用权。是指布图设计权人享有的将受保护的布图设计以及含有该受保护的布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。
　　二、集成电路布图设计专有权的法律保护
　　（一）保护期限
　　1、根据我国《条例》，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
　　2、无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《条例》保护。
　　（二）侵权样态：侵犯布图设计的行为主要包括非法复制和非法进行商业利用。
　　（三）侵权责任
　　1、侵权责任的形式
　　我国《条例》规定了侵犯布图设计专有权的民事和行政责任。
　　关于民事责任，侵权行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。
　　关于行政责任，国务院知识产权行政部门在处理因侵权而引起的纠纷时，如果认定侵权成立，可以责令侵权人立即停止侵权行为、没收、销毁侵权产品或物品
　　2、即发侵权的制止。布图设计权利人或利害关系人有证据证明他人正在实施或即将实施侵犯其专有权的行为，如不及时制止将会使其合法权益受到难以弥补的损害的，可以在起诉前依法向人民法院申请采取责令停止有关行为和财产保全的措施。
　　三、集成电路布图设计专有权的限制
　　1、合理使用或利用
　　（1）为个人目的而复制
　　为个人目的而复制受保护的不图设计可不经权利人许可，不向其支付费用；
　　（2）供教学研究而复制
　　单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可不经权利人许可，不向其支付报酬。
　　2、反向工程。是指对他人的布图设计进行分析、评价，然后根据这种分析评价的结果创作出新的布图设计。
　　3、权利穷竭。是指布图设计权人或经其授权的人，将受保护的布图设计或含有该布图设计的半导体集成电路产品投入市场以后，对与该布图设计或该半导体集成电路产品有关的任何商业利用行为，不再享有权利，任何人均可不经权利人或者其授权的人同意并不向其支付报酬，而进口、分销或以其他方式进行转让，不构成对权利人权利的侵犯。
　　4、善意买主。在获得含有受保护的布图设计的集成电路或含有该集成电路的物品时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。
　　5、强制许可。又称非自愿许可，是指不经权利人同意的情况下由有关主管部门直接发放的使用许可，是对布图设计权利人的一项重要限制

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